EUV”的相关资讯
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  • EUV光阻剂供应被打乱,三星7纳米芯片或延后上市

    日本对韩国祭出半导体关键材料出口禁令后,韩国科技产业剉咧等,原本三星打算今年底推出7纳米制程芯片,可能被迫延后上市,反让竞争对手台积电受惠。日经新闻引述消息来源指出,三星光阻剂的3大主要厂商,包括东京应化工业、信越化学工业,以及JSR均表示,日

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    2019-07-15 11:29
  • DRAM大厂火速进军1znm 用EUV排挤低位玩家

    6月20日,据DIGITIMES报道,由于2019年上半年DRAM价格下跌面临沉重压力,虽然目前由于产能调节及正处于市场旺季,致使DRAM需求有所提升,但为了能够提升生产效益及拉开竞争差距,众多DRAM大厂已经开始竞相研制下一代工艺制程。由于半

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    2019-06-20 17:46
  • 英特尔10纳米产品 6月出货

    就在台积电及三星电子陆续宣布支援极紫外光(EUV)技术的7纳米技术进入量产阶段后,半导体龙头英特尔也确定开始进入10纳米时代,预计采用10纳米产品将在6月开始出货。同时,英特尔将加速支援EUV技术的7纳米制程研发,预期2021年可望进入量产阶段

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    2019-05-14 11:39
  • ASML发布Q1财报,对今年展望不变

    全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔(ASML)18日发布2019年第一季财报。第一季销售净额(netsales)为22亿欧元,净收入(netincome)3.55亿欧元,毛利率(grossmargin)41.6%。因逻辑芯片客户需求强劲,公司对

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    2019-04-18 10:29
  • 成了!三星官宣完成5纳米EUV工艺研发

    4月16日,三星官网发布新闻稿,宣布已经完成5纳米FinFET工艺技术开发,现已准备好向客户提供样品。与7纳米工艺相比,三星的5纳米FinFET工艺技术提供了高达25%的逻辑面积效率提升。同时由于工艺改进,其功耗降低了20%、性能提高了10%,

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    2019-04-16 14:59
  • 我国光刻样机实现新突破 光刻出最小9纳米线段

    4月10日记者从武汉光电国家研究中心获悉,该中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制,采用远场光学的办法,光刻出最小9纳米线宽的线段,实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。光刻机是集成电路生产制造过程中的关

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    2019-04-16 14:33
  • EUV技术 为摩尔定律延命

    随着晶片功能愈趋强大,在半导体制程愈趋复杂的情况下,摩尔定律的推进已经放缓,以台积电、三星、英特尔等三大半导体厂目前采用的浸润式(immersion)微影及多重曝影(multi-patterning)技术来说,若要维持摩尔定律的制程推进速度,晶

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    2019-02-25 09:59
  • 台积电抢下今年EUV过半出货量,力拼二代7nm与5nm量产

    就在日前,半导体设备大厂荷兰商艾司摩尔(ASML)在财报会议上表示,2019年ASML将把极紫外光刻机(EUV)的年出货量从18台,提升到30台之后,现有外国媒体报导,晶圆代工龙头台积电将抢下这30台EUV中过半的18台数量,这也将使得台积电在

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    2019-02-13 11:17
  • 今年ASML将EUV光刻机的年出货量从18台预计上升到30台

    据快科技报道,今年ASML将EUV光刻机的年出货量从18台预计上升到30台。来自产业链的最新消息称,台积电将包揽ASML这批EUV光刻机中的18台,加上先前的几台,可以在今年3月份启动7nmEUV的量产,推动7nm在其2019年晶圆销售中的占比

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    2019-02-13 09:34
  • 英特尔在7nm将依靠EUV技术实现

    随着晶圆代工厂台积电及记忆体厂三星电子的7纳米逻辑制程均支援极紫外光(EUV)微影技术,并会在2019年进入量产阶段,半导体龙头英特尔也确定正在开发中的7纳米制程会支援新一代EUV技术。英特尔10纳米制程推进不如预期,导致14纳米产能供不应求,

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    2019-01-03 10:55
  • 三星电子宣称引进的EUV设备数量已经足够应付现况,预计明年不会购买EUV

    半导体产业景气转弱又出现新信号!韩国媒体报导,三星电子宣称引进的EUV设备数量已经足够应付现况,预计明年不会购买EUV(极紫外线)设备,未来若要持续引进,将会评估2020年晶圆代工和存储器半导体部门的订单再做决定。根据韩媒《DDaily》报导,

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    2018-12-05 09:17
  • 三星电子比台积电抢先应用EUV曝光设备

    三星电子为夺取台积电客户,正极力发展EUV(极紫外线)的7纳米制程,但台积电也将导入EUV技术,让业界普遍认为,三星要在短时间内达到此目标不太可能。三星电子比台积电抢先应用EUV曝光设备,但基于验证工程稳定化需要时间,三星电子今年10月表示,已

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    2018-11-30 09:21

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